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  • mos场效应管门极电压注意事项-mos场效应管应用-竟业电子 mos场效应管门极电压注意事项-mos场效应管应用-竟业电子
    降低MOS场效应管Rds(ON),得到潜在效率,要注意以下因素,Q1=MOS场效应管 Q2=同步整流器 电压驱动控制Q1与Q2相对门极 额外离散元件需求 影响PCB路由 最佳驱动电压振幅需求 仲裁元件对控制Q1与Q2分析 门极源极电压(VGS)相对另一门极源极电压优势 要注意: 本文所有曲线图作为实际应用依据:是从数据表可得典型MOS场效应管性能特性曲线图 MOS场效应管Rds(ON)对门极驱动电压 门极驱动电压对门极电荷的曲线

    时间:2021/1/14键词:mos场效应管

  • PowerPAIR封装特点-MOS场效应管双芯片封装-竟业电子 PowerPAIR封装特点-MOS场效应管双芯片封装-竟业电子
    PowerPAIR封装 PowerPAK® SO-8+PowerPAK 1212-8 PowerPAK 1212-8 尺寸:3mm x 3m 应用于:小电流,低RDS(on),笔记本电脑10A DC-DC 若:功率密度提高,再节省空间,那么封装内可装2个元件,代替分立单片MOS场效应管; SO-8双芯片MOS场效应管,只能处理负载电流< 5A,但负载电流>10A不可为; 因此设计师提出:提高最大电流+热性能好的封装 封装内装2片分开芯片,电源电路面积即减小; PowerPAIR封装 尺寸 < 单片6 x 5 PowerPAK SO-8 最大电流最高=15A 6 x 5封装面积:60m㎡ PowerPAIR封装面积:6.0mm x 3.7mm=22m㎡ PowerPAIR双芯片功率封装特点 它应用了一种DC-DC降压转换器非对称结构 高边+低边元件优化后,它们的占用面积是一样的;

    时间:2021/1/13键词:MOS场效应管

  • MOS场效应管与IGBT并联使用满足条件-MOS场效应管应用-竟业电子 MOS场效应管与IGBT并联使用满足条件-MOS场效应管应用-竟业电子
    MOS场效应管并联使用满足条件 1.导通电阻或饱和压降为正温度系数; 2.并联使用MOS场效应管要一致性好; 3.元器件最好选择同一批次的; MOS场效应管导通电阻基本上是正温度系数,因此它比较容易并联使用; IGBT并联使用满足条件 IGBT饱和压降有:正温度系数+负温度系数 1.导通电阻或饱和压降为正温度系数; 2.IGBT正温度系数饱和压降即可实现并联使用,且均流效果很好; 但IGBT负温度系数饱和压降使用并联,很难均流,所以并联使用不可实现;

    时间:2021/1/12键词:MOS场效应管

  • 叠栅MOS场效应管是什么及结构优势-MOS场效应管应用-竟业电子 叠栅MOS场效应管是什么及结构优势-MOS场效应管应用-竟业电子
    叠栅MOS场效应管是什么 它是一种新型结构,它的栅电容:电容2个混联; 它作用:抑制短沟道效应; 原因:栅电容小;,叠栅MOS场效应管优势 叠栅MOS场效应管沟道中的电场分布不均匀,界面处在电场有一个峰值,源端电子在此峰值电场加速时,平均速度会很大,电场分布会更加均匀,增加电子平均速度,迁移率提高,增加驱动能力和截止频率,跨导增加,漏端尖峰电场下降,短沟道效应降低,热载流子注入减小,击穿电压增加;

    时间:2021/1/11键词:MOS场效应管

  • MOS场效应管抗SEB能力优化-MOS场效应管应用-竟业电子 MOS场效应管抗SEB能力优化-MOS场效应管应用-竟业电子
    影响MOS场效应管SEB效应的是:寄生晶体管VQ1导通+元件二次击穿特性 因此重离子辐射只是一种触发机制,并与入射粒子种类和剂量无关; 建立SEB模型,可把因入射粒子影响发生的等离子体丝流在源极PN结上偏压; 文献表征:分开背栅短路p源极+n源极,串联不同接触电阻Rp+Rn,实验研究和仿真验证表明可以,元件二次击穿特性决定抗SEB能力; 越高的二次击穿电流和电压,元件抗SEB能力越强; 元件仿真,缓冲层在抗SEB效应中起的作用,即给出一种三缓冲层优化结构;

    时间:2021/1/8键词:MOS场效应管

  • 高压VDMOS场效应管横向结构设计分析-MOS场效应管应用-竟业电子 高压VDMOS场效应管横向结构设计分析-MOS场效应管应用-竟业电子
    VDMOS场效应管横向结构设计 它包括几个部份:元胞结构+栅电极结构+结终端结构 设计元胞结构 首先是元胞结构选取,因很容易集中正三角形元胞电场,会降低漏源击穿电压; 六角形元胞对角线与对边距比值<方形元胞对角线与边长比值 可以让电流均匀分布,有很小的曲率效应, 六角形元胞<圆形元胞牺牲率 圆形元胞牺牲率是:A’/Acell, A’=元胞边缘结合处不能流电流的无效区面积 Acel=元胞总面积 此设计:VDMOS场效应管=500 V高压,用正六角形”品”字排列元胞结构;

    时间:2021/1/7键词:MOS场效应管

  • 高压VDMOS场效应管参数设计分析-MOS场效应管应用-竟业电子 高压VDMOS场效应管参数设计分析-MOS场效应管应用-竟业电子
    高压VDMOS场效应管参数有以下几种: 导通电阻+开关时间+外延层厚度及电阻率+阈值电压 1.导通电阻 功率VDMOS场效应管耐压不同时,有着不同的电阻占导通电阻比; 高压VDMOS场效应管,外延层或是说漂移区最主要是:电阻RD和JFET区电阻RJ; 耐压满足时,结构用穿通型,因此外延层厚度减小,若JFET增加合适的宽度,RD与RJ即减小; 2.开关时间 开关时间要得到更好的优化,那么就要从2个问题去解决: 多晶硅栅电阻RG+输入电容Cin都要减小; 多晶硅电阻RG减小解决方案是: 制作过程中多晶硅掺杂剂量提升,设计版图时栅极多晶硅及栅极铝引线接触孔都增加; 输入电容Cin都要减小解决方案是: 输入电容中,主要影响原因是密勒电容CGD,即密勒电容CGD减小,那么就要让栅氧化层厚度tox增加,但阈值电压VTH增大(实际应用中要考虑);

    时间:2021/1/6键词:MOS场效应管

  • 开关模式MOS场效应管解决冷却系统成本-MOS场效应管应用-竟业电子 开关模式MOS场效应管解决冷却系统成本-MOS场效应管应用-竟业电子
    硅功率二极管PN结压降1.2V,因此消耗很多能量,引起电源效率损失; 太阳能板24V电压+120W电源,为避免回流二极管产生6W功率损失(受控能量5%), 二极管散热开发冷却系统成本会非常之高; 为了节约成本,解决方案 用工作在开关模式MOS场效应管取代传统功率二极管,MOS场效应管on状态,低漏源电阻; V2=36V交流电源 负载:9Ω电阻RL+25 mH线圈L1 IC1=比较器 D1=二极管 R1=电阻 电源正极>漏极电压负极 IC1产生Q1栅极电压,源极=整流器正极,漏极=负极 用沿晶体管源漏方向传导电流能力;

    时间:2021/1/5键词:MOS场效应管

  • MOS场效应管雪崩方式及何时要考虑雪崩-mos场效应管应用-竟业电子 MOS场效应管雪崩方式及何时要考虑雪崩-mos场效应管应用-竟业电子
    电子元器件在UIS工作时雪崩损坏模式有2种即寄生三极管导通损坏+热损坏,寄生三极管导通损,即在MOS场效应管内部一个寄生三极管,三级管击穿电压小于MOS场效应管电压,漏源反向电流流过P区,Rp和Rc产生压降值=三极管BJTVBEon,因不一致的局部单元,弱单元因三级管放大作用及基级电流IB增加让局部三极管BJT导通,因此发生失控,栅极电压不足以关断MOS场效应管;

    时间:2021/1/4键词:MOS场效应管

  • 高压场效应管热阻及切换损耗-场效应管应用-竟业电子 高压场效应管热阻及切换损耗-场效应管应用-竟业电子
    高压场效应管热阻 热阻RΦJA 计算表达式 RΦJA=RΦJC RΦCS RΦSA(3) RΦJC:junction-to-case结至管壳热阻与片基尺寸相关; RΦCS:是用户参数,case-to-sink管壳至汇点热阻与热界面+电隔离相关; RΦSA:是基本散热与空气流动,汇点至环境热阻; 若:无热损耗+元件装于确定铜量电路板上,而没有装在静止空气中板上,此时,热阻(定管壳至汇点+汇点至环境)因电源设计师负责; 半导体数据手册:提供分立封装节至管壳热阻与节至汇点的热阻;

    时间:2020/12/31键词:场效应管

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