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时间:2020/4/1 阅读:5305 关键词:场效应管
什么是场效应管MOS管
场效应管分两种:结型场效应管(junction FET—JFET) + 金属 - 氧化物半导体场效应管(metal-oxide semiconductor FET,简称MOS-FET),场效应管是场效应晶体管人简称,因数载流子参与导电也被称之为单极型晶体管;
场效应管MOS管的优点:
1.噪声小
2.大动态范围
3.输入电阻高
4.低功耗
5.集成容易
6.不会有二次击穿现象
7.具有很宽的安全工作区域
8.因利用多数载流子导电,温度稳定性较好
9.电压控制电子元器件并用是VGS栅源电压控制ID漏极电流
场效应管MOS管结构:
场效应管MOS管种类:增强型 + 耗尽型
场效应管MOS管分三个极:栅极G + 源极S + 漏极D
场效应管MOS管N沟道增强型结构:
在一块掺杂浓度较低的P型硅衬底上,制作两个高掺杂浓度的N+区,并用金属铝引出漏极d和源极s,后在半导体表面覆盖一层很薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层,在漏极与源极间绝缘层上装一个铝电极,作为栅极g,衬底引出一个电极B。
特点:N沟道增强型的栅极与其它电极间是绝缘的;
场效应管MOS管工作原理:
vGS对iD及沟道控制作用
vGS=0
增强型场效应管MOS管漏极d和源极s之间有两个背靠背的PN结。
栅极与源极间电压vGS=0 + 漏极与源极电压vDS,PN结处于反偏状态,漏极与源极间无导电沟道,漏极电流iD≈0。
vGS>0
栅极与衬底之间SiO2绝缘层间产生电场。
此电场方向垂直于半导体表面的由栅极指向衬底的电场。
此电场能排斥空穴而吸引电子。
排斥空穴:使栅极附近的P型衬底中的空穴被排斥,剩下不能移动的受主离子(负离子),形成耗尽层。
吸引电子:将 P型衬底中的电子(少子)被吸引到衬底表面。